Technologie

Technologia uziemień Easy

“Wykonawcy remontu instalacji uziemiającej na linii wysokiego napięcia w Górach Izerskich, ze względu na trudne warunki gruntowe, mieli trudności z zastosowaniem typowych rozwiązań stosowanych w tego typu przypadkach. Ostatecznie zdecydowali się na zastosowanie nowej technologii.

Grunt na którym wykonywano roboty charakteryzował się wysoką rezystywnością ok. 700-900 Ωm oraz skalistym i zmrożonym podłożem. Takie warunki sprawiały, że uziomy pionowe można było pogrążać po znalezieniu sondą odpowiedniej szczeliny na maksymalną na głębokość 3,5 m.
Wykonawca próbował radzić sobie za pomocą otoków o długości sięgającej nawet 300 m, uzyskując przy tym rezystancję na poziome 100 Ω, co było rezultatem nie do przyjęcia.

Postanowiono wykorzystać nową technologię Easy, która pozwala na osiągnięcie znacznie lepszych wartości rezystancji i ograniczyć zajmowany obszar przez instalację. Wykorzystując 7 kompletów 3 metrowych uziomów Easy uzyskiwało się wartość rezystancji poniżej 10Ω zajmując obszar 25-30m2. Dzięki tej technologii wykonawca miał możliwość wykonania instalacji o rezystancji poniżej 10 Ω, co przy zastosowaniu tradycyjnych rozwiązań było praktycznie niewykonalne.

Technologia uziemień Easy powstała na bazie trzydziestoletniego doświadczenia w budowie instalacji uziemiających, jako nieortodoksyjne rozwiązanie wyzwań stojących przed inwestorami, projektantami, wykonawcami i użytkownikami tej niezbędnej części każdej infrastruktury elektroenergetycznej. Część elektryczna tego typu rozwiązania w całości wykonana jest z miedzi i co najmniej przez wiele dziesięcioleci będzie w stanie rozładowywać każde prądy udarowe o praktycznie stałej wymaganej wartości. Skorodowana część stalowa zapewni stabilną wartość rezystancji. Testy wykazały, iż ta sama instalacja o identycznej konfiguracji i wartości rezystancji w tym samym miejscu i czasie emitowała napięcia rażenia o 3,89x mniejsze od instalacji opartej na klasycznych uziomach pionowych.

więcej na: www.uziemienie.pl

Click to comment

Leave a Reply

Twój adres email nie zostanie opublikowany. Pola, których wypełnienie jest wymagane, są oznaczone symbolem *

To Top